doe掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔径，它的结构是在玻璃基板上镀有一层很薄（~1μm）的图案反射涂层。
doe掩膜 产品详情
doe掩膜，可消除不需要的高衍射级次光学
doe掩膜
doe掩膜，主要用于精密的控制大功率激光的孔径，它的结构是在玻璃基板上镀有一层很薄（~1μm）的图案反射涂层。
doe掩膜的典型参数
外直径
5 - 100 mm
孔的形状
圆形、方形、 多孔径，其他
孔径尺寸
10 um - 60 mm
波长范围
193 - 11000 nm
transfer region
small; sharp edges
snr
~500
shape size
>5 um
衍射高级次消去膜通常分为两种不同类型的掩膜
一种是电介质反射掩膜
电介质反射掩模，英文名为dielectricreflective mask，是在熔融石英的基底上，镀一层由非常薄（〜1um）的反射涂层图案。涂层部分反射入射光束，而未涂层部分透射光束。
电介质反射掩膜的特性：
针对单波长设计，高损伤阈值，低吸收率
反射部分，> 99％的高反射率
透明部分，> 95％的高透射率
很薄的掩膜层(~1um)
另一种是透射成像掩模
透射成像掩膜，英文名为transmissiveimaging mask，透射式掩模的特点是透射全部入射光，没有任何阻挡，透射掩模使用衍射图案以大角度漫射不需要的波段。
它的工作原理如下：
中心有一个和反射式掩膜类似的透明区域，光线直接透过，周围区域具有衍射图案，使不需要的入射光以大角度出射。配合聚焦镜后焦平面放置的小孔，就可以阻挡大部分漫射光，从而达到阻挡多余激光的效果。
透射掩膜的特点：
不会有反射光的风险，导致损坏光学系统
~100％传输效率
比反射式掩模更高的激光损伤阈值
价格实惠
doe掩膜的应用领域：
缩减传输区域，设置一个很小的传输区域
控制激光衍射图案的大小
doe掩膜的型号规格：
型号
直径(mm)
孔径尺寸(um)
孔径形状
材质
dm-017
85
50075
square
熔融石英
dm-010
25.4
5680
round
熔融石英
dm-004
25.4
1750
square
熔融石英
dm-009
25.4
6200
round
熔融石英
dm-019
25.4
300
square
熔融石英
dm-007
25.4
10838
round
熔融石英
dm-006
25.4
7000
square
熔融石英
dm-005
25.4
3500
square
熔融石英
dm-008
20
8428
round
熔融石英
dm-016
11
5400
round
熔融石英
dm-015
11
3000
round
熔融石英
dm-014
11
4214.9
round
熔融石英
dm-013
11
2408
round
熔融石英
dm-012
11
3612
round
熔融石英
dm-011
11
4817
round
熔融石英
dm-003
11
165
square
熔融石英
dm-002
11
65
square
熔融石英